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文件大小：113MB （电子书pdf） 运算放大器应用电路设计

运算放大器应用电路设计 [日]马场清太郎 著; 何希才 科学出版社有限责任公司,【正版保证】
作者:[日]马场清太郎 著; 何希才出版社:科学出版社有限责任公司出版时间:2016年10月

开 本：16开纸 张：胶版纸包 装：平装-胶订是否套装：否国际标准书号ISBN：9787030184313
所属分类：
图书>教材>研究生/本科/专科教材>工学

内容介绍

本书内容共分3篇24章，第1篇为基础篇，本篇主要内容有引言、OP放大器的概述、OP放大器的基本知识、OP放大器的基本动作；第2篇为实用篇，主要内容有动态范围，负反馈的应用，输出偏置电压的减小，基本放大电路，积分电路与微分电路，振荡原因与对策，降噪；第3篇为应用电路篇，主要内容有差动放大电路设计，稳流电路和基准电压电路，电压-电流变换电路，加减算电路，比较电路，二极管应用电路，有源虑波器，有源LPF设计，HPF、BPF、BEF、APF设计，CR型正弦波振荡电路，LC型正弦波振荡电路，机械振子正弦波振荡电路，多振子与函数发生器等。

内容简介
本书分为三篇：篇介绍运算放大器的基础知识，主要包括运算放大器基本概念、特性参数和基本工作原理；第2篇阐述运算放大器的使用技术，内容包括运算放大器的动态范围、负反馈的使用、降低输出失调电压与噪声的方法，以及防振措施等；第3篇介绍运算放大器实用电路的设计，主要包括差动放大电路的设计、恒流电路基准电压电路、电压－电流转换电路、加减运算电路和比较器电路、有源滤波器和振荡器等电路的设计。
本书内容丰富、实用性强，既可供电子技术人员以及大专院校相关专业的师生使用，也可作为广大电子爱好者的学习参考书。

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• 《计算机光刻与版图优化》（电子版pdf格式）作者:韦亚一 等 著出版社:电子工业出版社

文件大小：361MB （电子书pdf） 衍射极限附近的光刻工艺

衍射极限附近的光刻工艺
入选2019年国家出版基金资助项目、“十三五”国家重点图书出版规划项目，一部极具深度和广度的光刻工艺技术著作，体系结构完整，内容系统全面，数据资料翔实，可读性强
作者:伍强 等出版社:清华大学出版社出版时间:2020年02月

开 本：16开纸 张：胶版纸包 装：平装-胶订是否套装：否国际标准书号ISBN：9787302537427丛书名：高端集成电路制造工艺丛书
所属分类：
图书>工业技术>一般工业技术

编辑推荐
集成电路产业是信息技术产业的核心，是支撑经济社会发展和保障国家安全的战略性、基础性和先导性产业。光刻工艺是集成电路制造业核心工艺技术之一，在集成电路的诸多领域，扮演着不可或缺的重要作用。
《衍射极限附近的光刻工艺》以光刻工艺为主线，将光刻设备、光刻材料、光刻成像的理论计算、光刻工艺中各种建模思想和推导，芯片制造的技术发展要求，以及对光刻工艺各项参数的要求紧密地联系在一起，为读者展现一个整体的图景。
本书是一部极具深度和广度的光刻工艺技术著作，覆盖多学科领域，体系结构完整，内容系统全面，数据资料翔实，论述严谨，可读性强。本书的出版将帮助读者全面、深入地了解光刻技术，推动光刻技术各领域的交流和协同，促进人才培养、技术进步和产业发展。
伍强博士等作者是随着半导体产业的发展成长起来的资深光刻技术专家，不仅有深厚的学术根基，还有丰富的产业经验，他们带领的团队多年来在国内外多家*公司一线工作，掌握了业界领先的制造工艺。他们处理实际问题的经验以及从产业出发的独特技术视角，将给读者带来启发和帮助。本书理论与实际相结合，紧跟国际技术前沿，填补国内外相关图书空白。

内容简介
为了应对我国在集成电路领域,尤其是光刻技术方面严重落后于发达国家的局面,破解光刻制造设备、材料和光学邻近效应修正软件几乎完全依赖进口的困境,作为从事光刻工艺研发近 20 年的资深研发人员,作 者肩负着协助光刻设备、材料和软件等产业链共同研发和发展的责任,将近 20 年的学习成果和研发经验汇编 成书,建立联系我国集成电路芯片的研发和制造,设备、材料和软件的研发,以及大专院校、科研院所的科学 技术研究、人才培养的一座桥梁。 本书以光刻工艺为主线,有机地将光刻设备、光刻材料、光刻成像的理论计算、光刻工艺中各种建模思想 和推导、芯片制造的技术发展要求以及对光刻工艺各项参数的要求紧密地联系在一起,给读者一个整体的图 景。《衍射极限附近的光刻工艺》可供光刻技术领域科研院所的研究人员、大专院校的教师和学生、集成电路工厂的工程技术人员等 参考。

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文件大小：278MB （电子书pdf） 纳米集成电路制造工艺

纳米集成电路制造工艺（第2版）
国内首本关于纳米集成电路制造工艺的著作。半导体产业领军人物张汝京组织，*半导体代工厂一线科研人员编写，清华大学王志华教授作序推荐。
作者:张汝京 等出版社:清华大学出版社出版时间:2017年01月

开 本：32开纸 张：胶版纸包 装：平装-胶订是否套装：否国际标准书号ISBN：9787302452331
所属分类：
图书>工业技术>电子 通信>微电子学、集成电路（IC）

编辑推荐
超大规模集成电路的生产工艺，从“微米级”到“纳米级”发生了许多根本上的变化。甚至，从45nm缩小至28nm（以及更小的线宽）也必须使用许多新的生产观念和技术。张汝京先生是随着半导体产业的发展成长起来的领军人物，见证了几个技术世代的兴起与淘汰。他本人有着深厚的学术根基，以及丰富的产业经验，其带领的团队是多年来在*半导体代工厂一线工作的科研人员，掌握了业界领先的制造工艺。他们处理实际问题的经验以及从产业出发的独特技术视角，相信会给读者带来启发和帮助。

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文件大小：107MB （电子书pdf） 计算机光刻与版图优化

计算光刻与版图优化
本书由中国科学院微电子研究所计算光刻科研团队撰写，系统、全面地介绍了集成电路制造中的计算光刻与版图优化的理论和关键技术
作者:韦亚一 等 著出版社:电子工业出版社出版时间:2021年01月
开 本：16开纸 张：胶版纸包 装：平装-胶订是否套装：否国际标准书号ISBN：9787121402265丛书名：集成电路技术丛书
所属分类：
图书>计算机/网络>计算机理论

商品详情

内容介绍

光刻是集成电路制造的核心技术，光刻工艺成本已经超出集成电路制造总成本的三分之一。在集成电路制造的诸多工艺单元中，只有光刻工艺可以在硅片上产生图形，从而完成器件和电路三维结构的制造。计算光刻被公认为是一种可以进一步提高光刻成像质量和工艺窗口的有效手段。基于光刻成像模型，计算光刻不仅可以对光源的照明方式做优化，对掩模上图形的形状和尺寸做修正，还可以从工艺难度的角度对设计版图提出修改意见，*终保证光刻工艺有足够的分辨率和工艺窗口。本书共7章，首先对集成电路设计与制造的流程做简要介绍，接着介绍集成电路物理设计（版图设计）的全流程，然后介绍光刻模型、分辨率增强技术、刻蚀效应修正、可制造性设计，*后介绍设计与工艺协同优化。本书内容紧扣先进技术节点集成电路制造的实际情况，涵盖计算光刻与版图优化的发展状态和未来趋势，系统介绍了计算光刻与刻蚀的理论，论述了版图设计与制造工艺的关系，以及版图设计对制造良率的影响，讲述和讨论了版图设计与制造工艺联合优化的概念和方法论，并结合具体实施案例介绍了业界的具体做法。本书不仅适合集成电路设计与制造领域的从业者阅读，而且适合高等院校微电子相关专业的本科生、研究生阅读和参考。

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